d-Matrix 携手 NVIDIA 采用 NVLink Fusion,加速 Raptor XPU 向 AI 工厂部署
AI推论晶片制造商d-Matrix宣布采用NVIDIA的NVLink Fusion技术,用于加速其Raptor XPU向AI工厂部署。
AI推论晶片制造商d-Matrix宣布采用NVIDIA的NVLink Fusion技术,用于加速其Raptor XPU向AI工厂部署。
中国科学院半导体所研制出具有高隧穿电阻比的滑移铁电隧穿结。铁电隧穿结通过铁电极化翻转调控隧穿电流,以两端结构实现非易失写入与非破坏性电阻读出,面向高密度非易失存储与存内计算。此前高隧穿电阻比与高循环耐久性难以兼得。3R-MoS2和1T′-ReS2等二维滑移铁电体依靠层间相对滑移实现极化翻转,避免离子迁移与缺陷累积,循环抗疲劳能力超过1011次。
存储行业强周期、高淘汰,长鑫产品线覆盖DDR5到LPDDR6,未来月产能预计突破30万片。越赚钱越砸技术,这才是接住行情的底气。
英飞凌SP4T(单刀四掷)开关型天线调谐器用于蜂窝移动终端。该通用型SP4T天线调谐器是目前手持类蜂窝移动终端中最常用的器件。
纳芯微发布GaN驱动芯片,面向AI算力与人形机器人产业推动的电源系统高功率密度需求。原文称电源系统正朝更高功率、更高效率、更小体积方向迭代,氮化镓作为宽禁带代表性器件具备相应优势,该驱动芯片用于破解高功率密度应用难题。
复旦微FM33LD5xx系列MCU面向人形机器人及具身智能应用,针对电机控制从单点驱动转向多轴协同的趋势。原文指出工程师面临主频不足、难以运行多电机算法以及ADC性能受限等痛点,该系列产品用于支撑具身智能场景下的电机控制需求。
日月光于2026年9月11日新闻发布会上宣布,其董事会已批准向牧德科技采购设备,包括自动光学检测(AOI)与自动视觉检测(AVI)系统,交易金额为新台币3.34亿元。该采购涉及半导体封测环节的检测设备,与元器件供应链的封测产能与设备供应相关。
东芯半导体携全线存储芯片产品及热门应用领域解决方案,亮相elexcon 2026第23届深圳国际电子展。展台按网络通信、安防监控、工业控制、物联网、消费电子、汽车电子六大应用区域划分,完整展示东芯全线存储产品。
全球MLCC龙头村田制作所于2026年9月正式发布停产通知,消费级常规料号进入退场倒计时,产能全面倾斜AI服务器高容市场。此举被描述为被算力需求重新定义的产能迁徙,涉及消费电子用MLCC料号退出与AI服务器高容MLCC产能倾斜,关联MLCC元器件供应链的供给结构调整。
AI推理与代理式AI推动服务器CPU需求爆发,英特尔自有晶圆厂优先保障高毛利数据中心订单,PC CPU产能受挤压,年内第三次涨价约10%,低毛利Small Core产品线或进入EOL。扩大台积电代工可缓解供应缺口但摊薄利润,18A良率爬升至85%,14A客户谈判将决定产能配置。
苹果在iPhone 18 Pro中引入自研C2基带,美国规格列表显示其支持n258、n260和n261毫米波频段,这是苹果C系列基带首次支持毫米波。此举削弱了高通在iPhone基带供应上的最后一大优势。
2026年第三季度,芯粤能半导体推出第二代沟槽栅SiC MOSFET工艺平台(T2平台),订单超2000万颗,实现规模化量产突破。该平台可覆盖新能源汽车主驱、光伏储能、直流充电模块、IPM、电机驱动、电源等核心场景,助力客户打造高效、小型化、高可靠的功率系统。
苹果发布最新iPhone 18 Pro及首款2nm芯片A20 Pro。据苹果官方规格,A20 Pro采用六核CPU、七核GPU和两个16核神经引擎。新封装方案提升其AI性能,并促使联发科与高通跟进。
AI 芯片初创公司 d-Matrix 采用 Nvidia 的 NVLink Fusion 技术,将其下一代 Raptor 推理处理器直接集成进 Nvidia MGX 机架,从而获得部署路径。该消息涉及 d-Matrix 与 Nvidia 两家公司,产品为 Raptor 推理处理器与 MGX 机架,技术为 NVLink Fusion。原文未给出时间、地点与具体数字。与元器件供应链的关联在于:推理芯片与机架级集成方案的变化,可能影响 AI 服务器相关芯片与组件的需求结构。
苹果发布最新iPhone产品线,其中新款可折叠iPhone最受关注,该发布可能重塑高端手机需求,但更大的问题在于苹果能否应对日益加剧的AI竞争,市场看法仍存分歧。
MLCC巨擘村田向客户端发出停产通知(EOL),预告九个系列的部分规格将停产,范围涵盖消费性电子用的一般规格,并扩及车规、射频等应用,拟于2029年停产。
据韩国消息,SK海力士计划于2028年将High-NA极紫外光刻技术应用于DRAM量产,并正考虑加入一项开发12英寸光掩模的行业倡议。三星同样关注2028年High-NA DRAM的推进。两家公司均为全球主要存储芯片厂商,此举涉及DRAM制造工艺与光掩模供应链环节。
台积电正由传统先进晶片制造转型为系统整合服务商,布局矽光子与CPO共同封装光学,以应对AI算力需求爆发及传统铜线传输的物理瓶颈。国内法人研究指出此一转型方向,涉及COUPE矽光子技术与CPO光互连,与AI光互连供应链相关。
9月10日,泰矽微发布TSP007车规级电容防夹专用芯片。该芯片面向汽车智能开闭件应用,可为电动车门、前备箱、电动尾门、车窗等开闭机构提供电容式主动防夹单芯片解决方案。
2026年9月10日,寒武纪基于 vLLM 推理框架完成对深度求索公司最新开源模型 DeepSeek V4.1 Flash 的 Day 0 适配。该成果依托寒武纪长期积累的自研 NeuWare 软件生态与芯片设计技术,也是其持续投入芯片与算法联合创新的延续。
全球最大多层陶瓷电容器(MLCC)厂商村田(Murata)计划于明年开始量产其Integrated Package Solution(iPaS),这是一款面向人工智能芯片的电源基板。该产品属于元器件供应链中的电源相关产品,量产时间定在明年。
DeepSeek 发布 V4.1 Flash 模型,该模型为小尺寸模型,据称性能超越自家旗舰模型。
日本被动元件厂商Murata Manufacturing表示,由于AI需求持续对供应链造成压力,将逐步停止若干多层陶瓷电容器(MLCC)料号的生产。
Molex莫仕推出MiniMix混合电源和信号连接器,面向空间受限的人形机器人关节和驱动器,将15.0A电源与1Gbps 1000BASE-T1数据传输集成到5.65mm布局中,用于加速人形机器人量产规模扩展。
国内高性能专用SoC芯片供应商泰矽微(Tinychip Micro)正式发布TSP007车规级电容防夹专用芯片,面向整车开闭件安全防护应用。该芯片为车规级专用芯片,用于电容防夹检测,属于汽车电子元器件新品,与汽车芯片供应链相关。
友达光电(AUO)正加快转型,将其既有的大尺寸面板制造能力延伸至先进半导体封装领域,并匹配玻璃基板尺寸,此举引发外界对其与台积电(TSMC)合作的猜测。原文未披露具体时间、地点、料号及产能数字。该动向与元器件供应链的先进封装材料与基板环节相关。
9月9日苹果发布会上发生两件事:苹果将所售每部iPhone的价格统一上调100美元;同时推出A20 Pro芯片,其核心改进围绕内存展开。原文未披露具体机型、涨价后售价、内存规格与容量等细节。
DB HiTek 宣布已完成其 8 英寸晶圆上 1,200 V 碳化硅(SiC)MOSFET 工艺的可靠性认证。该工艺开发有望为下一代功率器件扩大代工产能。
SK Hynix 表示,3D DRAM 将借鉴逻辑代工的做法,这标志着其存储设计思路的转变,影响可能超出韩国。该公司正把逻辑代工技术用于 3D DRAM,推动存储与计算走向融合。原文未给出具体时间、地点、型号与量产数字。此举与元器件供应链的关联在于存储设计与代工工艺路线的变化。
Alkaidsemi(上海)技术公司推出一款1,200 V碳化硅超结MOSFET,该公司称其为全球首款SiC超结MOSFET产品。项目负责人Hao未在原文中提供更多细节。该产品属于功率半导体器件,与碳化硅功率芯片供应链相关。
三星电机(Samsung Electro-Mechanics,Semco)向台积电提交的玻璃通孔(TGV)模块可靠性评估耗时超出预期,导致其玻璃基板量产推进放缓。该评估进度延后,使三星电机的玻璃基板上市时间表相应推迟。玻璃基板为先进封装用关键材料,此次延迟涉及三星电机与台积电两家公司。
中国领先的DRAM厂商长鑫存储(CXMT)已开始HBM3试产,但据称初期良率仍停留在约25%。报道指出,TSV与堆叠工艺的挑战凸显中国在AI存储领域的差距。该事件涉及CXMT的HBM3产品试产进展与良率水平,与元器件供应链中的存储芯片环节相关。
三星与ASML宣布将深化在High NA EUV光刻及先进半导体制造技术上的合作。三星计划在其未来的DRAM产线中引入ASML的High NA EUV光刻设备。双方未披露具体投资金额、时间表或产能目标。该合作涉及先进光刻设备与存储芯片制造环节。
思特威(SmartSens,股票代码688213)正式推出3MP高性能车规级图像传感器升级新品SC365AT,为业内首款集成SerDes与片上ISP的300万像素车载CMOS图像传感器。
芝奇推出Trident Z5 Royal NeoX皇家戟X系列DDR5内存,支持最新AMD EXPO ULL细参数优化超频技术。本次推出规格皆为32GB(16GBx2)容量套装,涵盖DDR5-6000 CL26、CL28、CL30及CL36等多款低延迟规格。该系列提供低延迟性能,面向AMD平台超频应用。
台积电与ASML合作开发12吋光罩,以解决High NA EUV曝光减半的瓶颈,旨在支持AI产业中面积最大的晶片制造。此举涉及新一代微影设备的技术变革,对半导体先进制程及相关供应链具有重要意义。
台积电计划自2030年起导入High-NA EUV技术,用于A10制程,该制程预期成为首发应用。目前台积电尚未公开评论具体细节,但业界关注其对先进制程的影响。
村田制作所于2026年9月9日在中国深圳参加第27届中国国际光电博览会,展示多款创新产品与前沿解决方案,重点赋能AI数据中心光互连。村田作为综合电子元器件制造商,其展示的元器件产品与AI数据中心光互连相关,可能涉及高速光模块、连接器等,对供应链有潜在影响。
LG Innotek推出用于AI芯片的嵌入式FC-BGA基板,将硅电容集成于封装基板内部。该公司还计划进一步开发相关技术。
Inoplaztech计划将其碳纳米管导电添加剂的年产能扩大至100吨。传统液态分散形式的CNT添加剂难以用于干法工艺。
DB HiTek于9月9日宣布,已完成其8英寸碳化硅(SiC)晶圆代工业务的可靠性验证,接近量产。该公司正为8英寸SiC代工业务的大规模生产做最后准备。
三星电子计划率先引入荷兰半导体设备制造商ASML的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻设备,用于DRAM制造。该设备型号为EXE:5000,预计2025年交付。此举旨在提升DRAM制程精度,巩固其存储芯片竞争力。
英伟达下一代Rubin Ultra拟将HBM由12层改为8层,单卡显存从288GB降至192GB,总带宽不降,单位容量带宽反升约五成。在存储涨价、HBM供应紧张的背景下,其供应与产能承诺已增至2790亿美元。
有媒体引述供应链人士消息称,英特尔PC CPU预计于2026年10月5日再度涨价10%,同时毛利率偏低的小核产品线或将启动停产退市。
德明利推出TE5480/TE5440系列PCIe Gen5 SSD,面向AI PC高性能存储需求。该系列产品支持本地运行AI模型,应对模型文件与知识库带来的数据增长,提供高容量与高带宽存储解决方案。
兆易创新宣布将携MCU、Flash、模拟三大产品线的光模块解决方案,出席9月9日至11日在深圳国际会展中心举办的第27届中国国际光电博览会。此举旨在展示其产品在光模块领域的应用,强化算力光联基座,与元器件供应链相关。
安森美推出垂直GaN功率器件,该器件采用垂直结构,电流从芯片顶部流到底部,相比传统横向GaN器件具有更小尺寸、更轻重量和更高效率,为功率器件应用提供更多可能性。
瑞昱董事长邱顺建本周获台湾工业技术研究院(ITRI)荣誉会士,他在公开采访中表示,公司已在进行云端AI相关ASIC和SSD芯片的研发,以扩大在该领域的布局。
据SemiAnalysis分析,英伟达正将Rubin Ultra AI加速器的HBM堆叠层数从12层下调至8层,以控制内存成本。8层HBM4配置下单GPU容量为192GB,而12层Rubin为288GB。
美芯晟推出长距离DTOF激光雷达接收SoC芯片MT3806,面向扫地机器人、割草机器人、泳池机器人及服务机器人等应用,提升空间感知能力,应对低反射或强反射目标。