High NA EUV》台积电联手 ASML 开发 12 吋光罩，解决 High NA EUV 曝光减半瓶颈

台积电与ASML合作开发12吋光罩，以解决High NA EUV曝光减半的瓶颈，旨在支持AI产业中面积最大的晶片制造。此举涉及新一代微影设备的技术变革，对半导体先进制程及相关供应链具有重要意义。