全球首个!深圳平湖实验室GaN-on-SiC工艺平台取得新突破
中文摘要
8月20日,深圳平湖实验室宣布推出全球首个8英寸碳化硅基氮化镓(GaN-on-SiC)增强型HEMT工艺平台。该平台已完成多项关键技术攻关,验证了8英寸GaN-on-SiC技术的产业化可行性。
正文内容 · AI翻译
该条原文为中文,请通过文末原文入口阅读全文。
8月20日,深圳平湖实验室宣布推出全球首个8英寸碳化硅基氮化镓(GaN-on-SiC)增强型HEMT工艺平台。该平台已完成多项关键技术攻关,验证了8英寸GaN-on-SiC技术的产业化可行性。
该条原文为中文,请通过文末原文入口阅读全文。