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科技新报 TechNews原文发布 11-09 10:25Radar 收录 11-09 13:46查看原文 ↗繁→简

黄仁勋间谍外遇案扩大:纽时揭露两家获准经手辉达 H200 中企是空壳公司关键事件

中文摘要

《纽约时报》调查指出,美国商务部核准多家中国企业经手辉达 H200 人工智慧晶片后,发现至少两家获准企业的登记地址为空壳公司。报导称此案与黄仁勋相关的间谍外遇案调查范围扩大。事件涉及美国商务部对 H200 晶片流向中国企业的许可审批,以及相关企业资质问题。

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