新的突破!御微首台覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备Raptor-600 成功交付国内头部晶圆厂
中文摘要
御微半导体首台覆盖90~28nm的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600成功交付国内头部晶圆厂,该设备用于半导体制造中的掩模检测,属于电子元器件供应链上游设备环节。
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御微半导体首台覆盖90~28nm的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600成功交付国内头部晶圆厂,该设备用于半导体制造中的掩模检测,属于电子元器件供应链上游设备环节。
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