台积电与ASML目标2031年建成12英寸光掩模试验线，2033年量产
TSMC, ASML target 12-inch photomask pilot line by 2031, production by 2033
中文摘要
台积电与ASML发起行业倡议，推动极紫外光刻从6英寸光掩模转向12英寸格式，目标2031年建成试验掩模线，2033年实现12英寸High NA系统量产。
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