ASML、台积电联手推进 High NA EUV 应用，12 吋光罩布局瞄准 2033 年量产

ASML与台积电宣布合作，共同推进High NA EUV光刻技术应用，并布局12英寸光罩，目标于2033年实现量产。此举旨在引领半导体产业向更大尺寸光罩转移升级，涉及先进制程设备与材料供应链。