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科技新报 TechNews原文发布 10-05 10:37Radar 收录 10-05 19:02查看原文 ↗繁→简

东芝攻克 SiC MOSFET 电压漂移,长期可靠性再提升

中文摘要

东芝持续推进碳化硅(SiC)功率半导体技术,宣布开发沟槽闸极(Trench-gate)SiC MOSFET,攻克电压漂移问题,提升长期可靠性。原文未披露具体型号、量产时间、地点与供应链影响。

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